荷擬收緊尖端光刻機出口管制

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【本報訊】據觀察者網九日消息：在跟美國政府達成協議一個多月後，當地時間三月八日，荷蘭政府以“國家安全”為由，宣佈將對包括“最先進的”深紫外光刻機(DUV)在內的特定半導體製造設備實施新的出口管制。

這意味着，荷蘭方面已將光刻機出口管制的範圍，由極紫外光刻機(EUV)擴大到了DUV。

由於DUV仍佔很大出貨比重，荷蘭光刻機巨頭ASML很快發佈聲明，稱該公司需要申請許可證，才能出口最先進的浸沒式DUV光刻機，但新的出口管制，並不適用於所有的浸沒式DUV，而只是針對“最先進的”。

據路透社等外媒的報道，當地時間八日晚間，荷蘭外貿與發展合作大臣施賴納馬赫爾在致荷蘭議員的一封信中稱，“鑒於技術發展和地緣政治背景，政府得出結論，為了（國際）國家安全，有必要擴大對特定半導體製造設備的現有出口管制。”

施賴納馬赫爾宣稱，荷蘭政府希望阻止荷蘭技術被用於軍事系統或大規模殺傷性武器（這與美國去年十月實施出口管制的理由類似），同時希望保持“荷蘭的技術領先地位”，為此將建立國家出口管制清單。

這封信並未提及任何國家和公司，但美國政治新聞網站《政客》認為，荷蘭此舉是迫於美國的壓力。

就在本月初中荷外長會面時，荷蘭外交大臣胡克斯特拉還表示，荷蘭將繼續根據本國利益在具體項目上獨立作出判斷。

實施新出口管制，顯然會對荷蘭半導體設備企業造成影響，尤其是光刻機巨頭ASML。施賴納馬赫爾在前述信中透露，新的出口管制措施包括最先進的DUV，這些措施將在今年夏天之前實施。