【澳門日報消息】近日網傳清華大學EUV項目把ASML的光刻機巨大化,實現了光刻機國產化,並稱項目已在雄安新區落地。
對此,中國電子工程設計院有限公司9月18日澄清,該項目並非網傳的國產光刻機工廠,而是北京高能同步輻射光源項目(HEPS)。HEPS坐落於北京懷柔雁棲湖畔,是國家“十三五”重大科技基礎設施,它是我國第一台高能量同步輻射光源,也是世界上亮度最高的第四代同步輻射光源之一。該項目早在2019年就開始建設、將於2025年底投入使用。
HEPS的作用是通過加速器將電子束加速到6GeV,然後注入周長1,360米的儲存環,用接近光速的速度保持運轉。電子束在儲存環的不同位置通過彎轉磁鐵或者各種插入件時就會沿著偏轉軌道切線的方向,釋放出穩定、高能量、高亮度的光,也就是同步輻射光。
HEPS可以看成是一個超精密、超高速、具有強大穿透力的巨型X光機,它產生的小光束可以穿透物質、深入內部進行立體掃描,從分子、原子的尺度多維度地觀察微觀世界,HEPS是進行科學實驗的大科學裝置,並不是網傳的光刻機工廠。
中國電子院稱,該項目由全國勘察設計大師、國投集團首席科學家婁宇帶隊,中國電子院多個技術科研和設計團隊協同合作,從項目可研立項到項目落地攻克了多項技術和工藝難關。目前高能同步輻射光源配套工程已全面完工。
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